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反滲透純水設(shè)備主要工藝流程說明
1.原水罐
儲存原水,用于沉淀水中的大泥沙顆粒及其它可沉淀物質(zhì)。同時緩沖原水管中水壓不穩(wěn)定對水處理系統(tǒng)造成的沖擊。(如水壓過低或過高引起的壓力傳感的反應(yīng))。
2.原水泵
恒定系統(tǒng)供水壓力,穩(wěn)定供水量。
3.多介質(zhì)過濾器
采用多次過濾層的過濾器,主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質(zhì)、懸浮物等顆粒在20um以上的物質(zhì),可選用手動閥門控制或者全自動控制器進行反沖洗、正沖洗等一系列操作。保證設(shè)備的產(chǎn)水質(zhì)量,延長設(shè)備的使用壽命。
4.活性炭過濾器
系統(tǒng)采用果殼活性炭過濾器,活性炭不但可吸附電解質(zhì)離子,還可進行離子交換吸附。經(jīng)活性炭吸附還可使高錳酸鉀耗氧量(COD)由15mg/L(O2)降至2~7mg/L(O2),此外,由于吸附作用使表面被吸附復(fù)制的濃度增加,因而還起到催化作用、去除水中的色素、異味、大量生化有機物、降低水的余氯值及污染物和除去水中的三鹵化物(THM)以及其它的污染物??蛇x用手動閥門控制或者全自動控制器進行反沖洗、正沖洗等一系列操作。保證設(shè)備的產(chǎn)水質(zhì)量,延長設(shè)備的使用壽命。同時,設(shè)備具有自我維護系統(tǒng),運行費用很低。
5.離子軟化系統(tǒng)/加藥系統(tǒng)
R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用,為防止?jié)馑颂貏e是RO裝置zui后一根膜組件濃水側(cè)出現(xiàn)CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4, SrSO4, SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數(shù)而結(jié)晶析出,損壞膜原件的應(yīng)有特性 ,在進入反滲透膜組件之前,應(yīng)使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽, SiO2,硫酸鹽的晶體析出.
6.精密過濾器
采用精密過濾器對進水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質(zhì)去除,使RO系統(tǒng)等后
續(xù)設(shè)備運行更安全、更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯、目的防止上級過濾單元,漏掉的大于5um的雜質(zhì)除去。防止進入反滲透裝置損壞膜的表面,從而損壞膜的脫鹽性能。
7.反滲透系統(tǒng)
反滲透裝置是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般是水)通過反滲透膜(或稱半透膜)而分離出來,因為這個過程和自然滲透的方向相反,因此稱為反滲透。 反滲透法能適應(yīng)各類含鹽量的原水,尤其是在高含鹽量的水處理工程中,能獲得很好的技術(shù)經(jīng)濟效益。反滲透法的脫鹽率提高,回收率高,運行穩(wěn)定,占地面積小,操作簡便,反滲透設(shè)備在除鹽的同時,也將大部分細菌、膠體及大分子量的有機物去除。
8.臭氧殺菌器(可選)
殺滅由二次污染產(chǎn)生的細菌*保證成品水的衛(wèi)生指標(biāo).
1、制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導(dǎo)體等工藝所需的純水、高純水;
2、制取熱力、火力發(fā)電鍋爐,廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水;
3、制取醫(yī)藥工業(yè)所需的大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、無菌水及人工腎透析用純水等;
4、制取飲料(含酒類)行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水,酒類釀造水和勾兌用純水;
5、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水;
6、制取電鍍工藝用去離子水;電池(蓄電池)生產(chǎn)工藝的純水;汽車、家用電器、建材產(chǎn)品
表面涂裝、清洗沌水;鍍膜玻璃用純水;紡織印染工藝所需的除硬除鹽水;
7、石油化工業(yè)如化工反應(yīng)冷卻水;化學(xué)藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過程用工藝純?水;
8、賓館、樓宇、社區(qū)機場房產(chǎn)物業(yè)的優(yōu)質(zhì)供水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)及游泳池水質(zhì)凈化;
9、線路板、電鍍、電子工業(yè)廢水處理及回用;
10、生活、、制革、印染、造紙工業(yè)廢水及垃圾滲瀝液的處理;
反滲透系統(tǒng)中zui常見的問題是脫鹽率的下降和產(chǎn)品水量的降低,如果二者或其中之一緩慢地降低,則可能是污垢或水垢產(chǎn)生的常見現(xiàn)象,可以通過適當(dāng)?shù)那逑磥斫鉀Q問題;而突然或快速的性能下降,則表明處理系統(tǒng)出了問題或操作失當(dāng)。發(fā)生了問題,需要盡早解決,延誤時機會導(dǎo)致反滲透膜無法恢復(fù)原有的性能。
及時發(fā)現(xiàn)問題的先決條件是保存相應(yīng)的記錄。當(dāng)發(fā)現(xiàn)系統(tǒng)脫鹽率和產(chǎn)水量下降時,首先應(yīng)該校正儀表,以避免因儀表原因而誤判。這些儀表包括電導(dǎo)率表、流量表、壓力表、溫度表等。其次,要對記錄的運行數(shù)據(jù)進行“標(biāo)準(zhǔn)化”。因溫度、進水TDS、回收率、使用年限和水通量等發(fā)生變化,都會引起脫鹽率和產(chǎn)水量的變化。通過計算得到標(biāo)準(zhǔn)化的產(chǎn)水量和脫鹽率,然后與初始的運行數(shù)據(jù)進行比較,確認(rèn)系統(tǒng)有*。
反滲透系統(tǒng)的故障現(xiàn)象主要有三類:透水量減少、鹽透過率增大(脫鹽率下降)以及壓降增大,但造成這些故障的原因很多,應(yīng)盡量從這些故障現(xiàn)象中找出問題的實質(zhì),從而盡快實施檢修和維持等對策。
反滲透設(shè)備的清洗方法
反滲透技術(shù)因具有特殊的*性而得到日益廣泛的應(yīng)用。反滲透凈水設(shè)備的清洗問題可能使許多技術(shù)力量不強的用戶遭受損失,所以要做好反滲透設(shè)備的管理,就可以避免出現(xiàn)嚴(yán)重的問題。
1.低壓沖洗反滲透設(shè)備定期對反滲透設(shè)備進行大流量、低壓力、低pH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢,維持膜性能,或當(dāng)反滲透設(shè)備進水SDI突然升高超過5.5以上時,應(yīng)進行低壓沖洗,待SDI值調(diào)至合格后再開機。
2.反滲透設(shè)備停運保護由于生產(chǎn)的波動,反滲透設(shè)備不可避免地要經(jīng)常停運,短期或長期停用時必須采取保護措施,不適當(dāng)?shù)靥幚頃?dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。
短期保存適用于停運15d以下的系統(tǒng),可采用每1~3d低壓沖洗的方法來保護反滲透設(shè)備。實踐發(fā)現(xiàn),水溫20℃以上時,反滲透設(shè)備中的水存放3d就會發(fā)臭變質(zhì),有大量細菌繁殖。因此,建議水溫高于20℃時,每2d或1d低壓沖洗一次,水溫低于20℃時,可以每3d低壓沖洗一次,每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所有進出口閥門。
長期停用保護適用于停運15d以上的系統(tǒng),這時必須用保護液(殺菌劑)充入凈水設(shè)備反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(復(fù)合膜)為甲醛10(質(zhì)量分?jǐn)?shù))、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1(質(zhì)量分?jǐn)?shù))。
3.反滲透膜化學(xué)清洗在正常運行條件下,反滲透膜也可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染,這些物質(zhì)沉積在膜表面上會引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高,甚至對膜造成不可恢復(fù)的損傷,因此,為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能,需要對膜進行化學(xué)清洗。
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